芯片厂里的热处理车间炉管设备负责芯片制造中的热工艺:把晶圆送入高温炉管,在精确控温的气氛中完成氧化、扩散、退火、LPCVD等工序。栅氧化层的生长、掺杂原子的推进、多晶硅薄膜的沉积,都依赖这类设备。立式和卧式,结构的演进早期炉管多为卧式,晶圆平放在石英舟上进炉。立式炉把晶圆竖直叠放,颗粒沉降更少、批量更大,成为12英寸产线的主流形态。北方华创的炉管产品以立式炉为代表,据国信证券研报经媒体转述的数
MEMS制造对设备有什么特别要求MEMS传感器把机械结构做进芯片里,工艺上既要集成电路设备,也要一些特色工艺:深硅刻蚀用于释放可动结构,薄膜沉积形成功能层,键合完成封装保护。这类产线多在8英寸及以下尺寸运行。北方华创系设备能承担的部分北方华创的刻蚀设备可用于MEMS结构的图形加工,硅刻蚀正是其传统产品方向;PVD、CVD设备服务功能薄膜和电极制备;炉管和清洗设备覆盖热处理与洁净需求。芯源微公开
涂胶显影设备为何是北方华创的空白项涂胶显影设备与光刻机联机工作,负责光刻胶的涂覆和显影。这个市场长期由日本东京电子主导,据行业公开数据,其全球份额约在90%左右。北方华创此前的产品线恰好缺这一块,而补全的方式是并购。收购芯源微的时间线2025年3月,北方华创宣布通过协议受让方式取得芯源微股份并改组其董事会。据财新报道,2025年6月23日,公司分别以14.48亿元和16.87亿元受让芯源微股东
从一道工序说起:离子注入之后发生了什么离子注入会把掺杂原子打进硅片,但这个过程同时会破坏硅的晶格结构,注入的杂质原子也没有进入正常晶格位置,电学上处于未激活状态。快速退火就是修复这道工序的关键:在极短时间内把晶圆加热到高温再迅速冷却,让晶格恢复、杂质激活,同时避免杂质过度扩散。北方华创快速退火设备的定位快速退火设备是北方华创公开披露的核心工艺装备之一,与炉管产品线同属热处理大类。相比传统炉管的